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CCD对位检查曝光机
 

 
特性:
◆CCD精准检查系统
采用日本全套CCD对位检查系统,能快速准确地检查上下底片对位。
◆高速曝光框运送系统
采用专业运动轨道,框架进出快速平稳。
◆精密曝光框定位装置
六点式曝光框定位机构,保证重复定位精度在±12.5um
◆二段曝光功率选择
5/8kw瞬间转换,5kw适合干膜线路曝光,8kw适合湿膜曝光。
◆工业电脑触摸屏控制
整机采用功能强大的工业电脑稳定控制,大尺寸彩色触摸式显示屏使操作简单明了。
◆自动防漏光安全装置
曝光前遮光挡会自动闭合,有效防止UV光外漏,避免伤害操作人员。
◆安全性设计
双键开合曝光框安全设计,确保操作人员安全。
规格:  
  有效曝光面积

305mm × 305mm ~ 558mm × 620mm

  基板厚度范围

0.1 ~ 2 .0mm

  基板弯翘范围

Max 5mm

  底片尺寸 610 × 660mm
  曝光光源

上下各一支非平行光金属卤素灯, 5kw 及 8kw 二段功率可调

  灯管冷却方式

间接水冷

  均匀度

﹥ 85%

  曝光控制方式

上下独立积量控制 @365nm

  曝光解析度

3 / 3mil

  曝光框结构 双框玻璃对玻璃,气动开合
  对位检查方式 2 个不可移动高解析度 CCD
  对准检查精度 ± 12.5 um
  底片固定方式

双沟槽真空吸附

  曝光框冷却方式 强制冷风
  电力需求 AC 380V 3 ¢ 50/60Hz 75A
  冰水需求 100L /min 7 ~ 11 ℃
  空压需求 150 ~ 200L/min 6kg /cm2

 

 
 
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